تبلور السليكون المبخّر بطريقة PECVD باستخدام تقنية الألمنيوم المحث على التبلور

dc.contributor.authorعبد الله بن محارب الظفيريar
dc.date.accessioned2025-01-05T06:51:47Z
dc.date.issued01/07/2003ar
dc.description.abstractملخص البحث. يعرض البحث طريقة تبخير السليكون غير المتبلور على قاعدتين الأولى  زجاجية والأخرى قاعدة من الكربون المغطى بالنيكل. تستخدم القاعدة الأولى لدراسة الأشعة السينية ولدراسة المجهر والماسح الإلكتروني بينما تستخدم القاعدة الثانية لدراسة المجهر النافذ الإلكتروني. تم تبخير السليكون بواسطة طريقة الرش الكيميائي تحت ضغط منخفض جدا ومن ثم استخدمت نفس الطريقة لتبخير الألمنيوم فوق السليكون سخنت العينات عند درجات حرارة مختلفة من 150ه م إلى 350 ه م ولمدة 30 دقيقة وجد أن السليكون يبدأ في التبلور عند درجة حرارة 200ه م عند استخدام المجهر النافذ الإلكتروني وعند درجة 275ه م عند استخدام الأشعة السينية. تم تفسير هذا الاختلاف طبقا لكل طريقة. درس سطح العينات باستخدام المجهر الماسح الإلكتروني ووجد أن العينات التي سخنت عند درجات حرارة أكبر من 275ه م تمتاز بوجود أشكال هرمية مما يؤكد تبلور السليكون بينما تمتاز العينات التي سخنت عند درجات حرارة أقل من 275ه م في وجود سطح أملس تم عرض ومناقشة وتفسير كل تلك النتائج بناء على التغيرات التركيبية والدراسات السابقة.ar
dc.identifier.sourceId299ar
dc.identifier.sourceURLhttps://ksupress.ksu.edu.sa/Ar/Lists/JournalAricle/DispForm.aspx?ID=299ar
dc.identifier.urihttps://ksu.otcloud.co.ke/handle/ksu-press/3302
dc.provenance( قدم للنشر في 14/11/2001م؛ وقبل للنشر في 19/03/2002م )ar
dc.publisherدار جامعة الملك سعود للنشرar
dc.publisherKing Saud University Pressen
dc.relation.issueالعدد 2ar
dc.relation.issueIssue 2en
dc.relation.journalمجلة العلوم الهندسيةar
dc.relation.journalEngineering Sciencesen
dc.relation.volumeالمجلد 15ar
dc.relation.volumeVolume 15en
dc.titleتبلور السليكون المبخّر بطريقة PECVD باستخدام تقنية الألمنيوم المحث على التبلورar
dc.typeJournal Articleen
dspace.entity.typeJournalArticle

ملفات

الحزمة الرئيسية

يظهر الآن 1 - 1 من 1
لا اختيار صورة مصغرة
الاسم:
V28M209R259.doc
الحجم:
2.8 MB
التنسيق:
Microsoft Word
الوصف:
V28M209R259.doc

المجموعات